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        1. Product Center

          產品中心(xin)

          當前(qian)位置(zhi):首頁(ye)  >  產(chan)品中心(xin)  >  曝(pu)氣(qi)機(ji)類(lei)  >  QSB潛(qian)水(shui)射(she)流(liu)曝(pu)氣(qi)機(ji)  >  QSB1.5射(she)流(liu)曝(pu)氣(qi)機(ji)

          射(she)流(liu)曝(pu)氣(qi)機(ji)

          簡(jian)要描(miao)述:射(she)流(liu)曝(pu)氣(qi)機(ji)主(zhu)要用於(yu)好(hao)氧池(chi)供(gong)氧。廣(guang)泛(fan)地應用於(yu)皮(pi)革(ge)、制漿(jiang)造紙、化工、醫藥(yao)、石(shi)化及(ji)食品加工等(deng)領(ling)域(yu)的汙水(shui)處(chu)理(li),如(ru)各(ge)種(zhong)活性(xing)汙泥(ni)法(fa)、氧化溝、氧化塘或(huo)SBR;以及(ji)市(shi)政汙水(shui)處(chu)理(li)及(ji)汙泥(ni)好(hao)氧消(xiao)化;並且(qie)可(ke)通(tong)過控制供(gong)風(feng)量(liang)實現脫(tuo)氮(dan)、硝(xiao)化的作(zuo)用。
          也(ye)可(ke)用於(yu)混合(he)攪(jiao)拌(ban)。如(ru)均質(zhi)池(chi)、調節(jie)池(chi)、選(xuan)擇池(chi)、快混池(chi)、膠羽池(chi)、中和(he)池(chi)、化學氧化池(chi)、消(xiao)毒(du)池(chi)、汙泥(ni)貯(zhu)存(cun)槽(cao)、脫(tuo)氮(dan)池(chi)、化學反(fan)應池(chi),以及(ji)氣(qi)提系統及(ji)熱交(jiao)換系統等(deng)攪(jiao)拌(ban)。

          • 產品型(xing)號(hao):QSB1.5
          • 廠(chang)商(shang)性(xing)質(zhi):生(sheng)產廠(chang)家
          • 更新時間:2025-10-24
          • 訪  問  量(liang):1880

          詳(xiang)細介紹

          品牌蘭(lan)江(jiang)加工定(ding)制是(shi)
          曝(pu)氣(qi)阻(zu)力10mmH2O通氣(qi)量(liang)10
          長度(du)100mm直徑(jing)100mm
          服(fu)務(wu)面積(ji)4*3m

          射(she)流(liu)曝(pu)氣(qi)機(ji)性(xing)能(neng)特點

          深(shen)水(shui)自吸(xi)式潛(qian)水(shui)使水(shui)體攪(jiao)動(dong)與充氧同(tong)時進(jin)行,氣(qi)泡(pao)細密(mi),既(ji)可(ke)獲得較(jiao)高(gao)的氧轉(zhuan)移(yi)率(lv),又具(ju)有(you)葉輪無(wu)堵塞優點。強有(you)力(li)的單(dan)向液流,造成(cheng)對(dui)流循環,且(qie)電機(ji)負(fu)載(zai)隨(sui)水位的變(bian)化很(hen)小(xiao),因(yin)此(ci),更適合(he)在水位變(bian)化較大的池(chi)中應用。無需(xu)壓(ya)縮(suo)空(kong)氣(qi)的條(tiao)件(jian)下(xia),**潛(qian)水曝(pu)氣(qi)深度(du)可(ke)以(yi)達到10m。成(cheng)本低,安裝(zhuang)、維(wei)護(hu)簡(jian)捷(jie)便(bian)利。


          射(she)流(liu)曝(pu)氣(qi)機(ji)主(zhu)要適(shi)用範圍(wei)有:

          1、深(shen)水曝(pu)氣(qi);

          2、生(sheng)化池(chi)的曝(pu)氣(qi)兼攪(jiao)拌(ban);

          3、汙泥(ni)曝(pu)氣(qi)兼攪(jiao)拌(ban);

          4、高(gao)濃度(du)有機(ji)廢(fei)水處理(li)工藝(yi)


          主(zhu)要用於(yu)好(hao)氧池(chi)供(gong)氧。廣(guang)泛(fan)地應用於(yu)皮(pi)革(ge)、制漿(jiang)造紙、化工、醫藥(yao)、石(shi)化及(ji)食品加工等(deng)領(ling)域(yu)的汙水(shui)處(chu)理(li),如(ru)各(ge)種(zhong)活性(xing)汙泥(ni)法(fa)、氧化溝、氧化塘或(huo)SBR;以及(ji)市(shi)政汙水(shui)處(chu)理(li)及(ji)汙泥(ni)好(hao)氧消(xiao)化;並且(qie)可(ke)通(tong)過控制供(gong)風(feng)量(liang)實現脫(tuo)氮(dan)、硝(xiao)化的作(zuo)用。

          也(ye)可(ke)用於(yu)混合(he)攪(jiao)拌(ban)。如(ru)均質(zhi)池(chi)、調節(jie)池(chi)、選(xuan)擇池(chi)、快混池(chi)、膠羽池(chi)、中和(he)池(chi)、化學氧化池(chi)、消(xiao)毒(du)池(chi)、汙泥(ni)貯(zhu)存(cun)槽(cao)、脫(tuo)氮(dan)池(chi)、化學反(fan)應池(chi),以及(ji)氣(qi)提系統及(ji)熱交(jiao)換系統等(deng)攪(jiao)拌(ban)。


          1.高(gao)效(xiao)

          射(she)流(liu)曝(pu)氣(qi)隨著水(shui)深(shen)的增(zeng)加,充氧效(xiao)率(lv)也(ye)會(hui)增(zeng)加,新型(xing)射(she)流(liu)曝(pu)氣(qi)器(qi)8米水(shui)深充(chong)氧效(xiao)率(lv)可(ke)達(da)35%,氣(qi)水比(bi)僅(jin)為4:1,充相(xiang)同量(liang)的空(kong)氣(qi)所(suo)使(shi)用的水(shui)相對較(jiao)少,能(neng)耗也(ye)會(hui)隨著降(jiang)低,大(da)大(da)的降(jiang)低汙水(shui)處(chu)理(li)成(cheng)本。

          2.氧轉(zhuan)移(yi)率(lv)

          氣(qi)體被(bei)高(gao)速(su)流體(ti)沖(chong)擊切割(ge)成(cheng)極(ji)細小(xiao)的氣(qi)泡(pao),這(zhe)是(shi)氧利(li)用率(lv)高(gao)的原因(yin)之(zhi)壹(yi)。射(she)流(liu)曝(pu)氣(qi)器(qi)產生(sheng)的紊(wen)流使得氣(qi)/液接(jie)觸(chu)面不(bu)斷(duan)更新,也(ye)利(li)於(yu)氧氣(qi)的傳遞(di)。

          也(ye)可(ke)用於(yu)混合(he)攪(jiao)拌(ban)。如(ru)均質(zhi)池(chi)、調節(jie)池(chi)、選(xuan)擇池(chi)、快混池(chi)、膠羽池(chi)、中和(he)池(chi)、化學氧化池(chi)、消(xiao)毒(du)池(chi)、汙泥(ni)貯(zhu)存(cun)槽(cao)、脫(tuo)氮(dan)池(chi)、化學反(fan)應池(chi),以及(ji)氣(qi)提系統及(ji)熱交(jiao)換系統等(deng)攪(jiao)拌(ban)。


          設備(bei)維(wei)護(hu)
          射(she)流(liu)曝(pu)氣(qi)系統由(you)於(yu)*不(bu)同於(yu)微(wei)孔(kong)曝(pu)氣(qi)等(deng)傳統曝(pu)氣(qi)方式的工作原理(li)和結(jie)構(gou)特(te)點,其高(gao)強度(du)的射(she)流(liu)主管道和強耐(nai)磨(mo)的噴嘴(zui)使(shi)得其終生(sheng)免維(wei)護(hu),以(yi)及(ji)所(suo)用PP材(cai)料(liao)的優(you)異抗腐(fu)蝕性(xing),可(ke)以(yi)有效(xiao)的避(bi)免斷(duan)裂、脫(tuo)落(luo)、腐(fu)蝕、磨(mo)損,另(ling)外池(chi)內無(wu)運(yun)轉部(bu)件,使得其可(ke)以(yi)做(zuo)到終生(sheng)免維(wei)護(hu)。對(dui)於(yu)常導致微(wei)孔(kong)曝(pu)氣(qi)等(deng)方式堵塞和破(po)壞的高(gao)硬度(du)、高(gao)鹽、高(gao)COD的使(shi)用環境(jing),射(she)流(liu)曝(pu)氣(qi)整個(ge)系統中(zhong)最(zui)細的部(bu)分是(shi)噴嘴(zui),並且(qie)此(ci)處(chu)是(shi)高(gao)速(su)噴射(she)的位置(zhi),強烈(lie)沖(chong)刷作(zuo)用使得結(jie)垢和(he)結(jie)晶(jing)無法(fa)形成(cheng);

           

           

           

           

           

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